特許
J-GLOBAL ID：200903006311411733
水素発生制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344067
公開番号（公開出願番号）：特開2003-146603
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：
【要約】【課題】 従来方法における煩雑な作業や応答性不良という欠点を克服し、簡単な操作で、しかも迅速に応答しうる水素発生制御方法を提供する。【解決手段】 触媒層を設けた反応帯域に、金属水素錯化合物のアルカリ水溶液を供給し、これを触媒と接触させて水素ガスを発生させる方法において、反応帯域からの水素ガスの取出量とともに、該アルカリ水溶液の反応帯域への供給量又は反応帯域からの排出量或いはその両方を増減して、反応帯域内の圧力を変化させ、該アルカリ水溶液の水位を上昇又は下降させることにより触媒層と該アルカリ水溶液との接触部分を調節して水素発生を制御する。
請求項（抜粋）：
触媒層を設けた反応帯域に、金属水素錯化合物のアルカリ水溶液を供給し、これを触媒と接触させて水素ガスを発生させる方法において、反応帯域からの水素ガスの取出量とともに、該アルカリ水溶液の反応帯域への供給量又は反応帯域からの排出量或いはその両方を増減して、反応帯域内の圧力を変化させ、該アルカリ水溶液の水位を上昇又は下降させることにより触媒層と該アルカリ水溶液との接触部分を調節することを特徴とする水素発生制御方法。
引用特許：
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