特許

J-GLOBAL ID：200903006336003915

エッチング装置と濃燐酸溶液の処理方法

発明者： 渡会 豊
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-018763
公開番号（公開出願番号）：特開平7-230981
出願日： 1994年02月16日
公開日（公表日）： 1995年08月29日
要約：

【要約】【目的】 シリコン基板上に膜形成してある窒化シリコン膜を熱燐酸を用いて溶解除去する装置に関し、熱燐酸の使用期間の拡大を目的とする。【構成】 複数の被処理基板を浸漬可能な処理槽1に濃燐酸溶液2を入れ、ストロークポンプ4により循環させる本体系と、処理槽1に補給ポンプ10により補給槽8より燐酸水溶液9を補充する補充系と、本体系のストロークポンプ4,補充系の補給ポンプ10とを制御する制御装置12とを少なくとも備えてなることを特徴としてエッチング装置を使用し、濃燐酸溶液の粘度変化によるストロークポンプ4のストローク数の変動を感知し、補充系より燐酸水溶液を処理槽1に供給して窒化シリコン膜を均一条件で溶解除去するよう構成する。

請求項（抜粋）：

被処理基板に形成してある窒化シリコン膜を濃燐酸溶液を用いて溶解除去する装置が、複数の被処理基板を浸漬可能な処理槽(1)に濃燐酸溶液(2)を入れ、ストロークポンプ(4)により循環させる本体系と、前記処理槽(1)に補給ポンプ(10)により補給槽(8)から燐酸水溶液(9)を補充する補充系と、前記本体系のストロークポンプ(4),補充系の補給ポンプ(10)とを制御する制御装置(12)と、を少なくとも備えてなることを特徴とするエッチング装置。

FI (2件)：

H01L 21/306 J ,  H01L 21/306 E

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-209531
  
• ウェット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-231848   出願人：三菱電機株式会社
• ウェットエッチング装置及びフィルタ再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-092951   出願人：日本電気株式会社
• 特開平4-103781
  

審査官引用 (1件)

• 特開平4-209531