マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-090206
公開番号（公開出願番号）：特開2002-287057
出願日： 2001年03月27日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：

【要約】【課題】機械的な振動等に対して強くピッチ変動の少ない、且つ、環境安定性にも優れたマルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置を得ること。【解決手段】光源から出射した光束を発散光束もしくは収束光束に変換する第1の光学系とを有する光束変換手段を複数有する光源ユニットと、光源ユニットから出射された複数の光束を合成し略同一方向に出射させるビーム合成手段と、合成された複数の光束を主走査方向に長い線像として結像させる第2の光学系と、入射された複数の光束を主走査方向に反射偏向する偏向手段と、反射偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる第3の光学系とを有し、複数の光束の副走査方向の相対的な位置を調整することによって、複数の光束の被走査面上における副走査方向の相対的な結像位置を調整する調整手段を有していること。

請求項（抜粋）：

光源と、該光源から出射した光束を発散光束もしくは収束光束に変換する第1の光学系とを有する光束変換手段を複数有する光源ユニットと、該光源ユニットから出射された複数の発散光束もしくは収束光束を合成し、略同一方向に出射させるビーム合成手段と、該ビーム合成手段により合成された複数の発散光束もしくは収束光束を主走査方向に長い線像として結像させる第2の光学系と、該第2の光学系の結像位置もしくはその近傍に偏向面を有し、入射された複数の発散光束もしくは収束光束を主走査方向に反射偏向する偏向手段と、該偏向手段で反射偏向された複数の発散光束もしくは収束光束を被走査面上に結像させる第3の光学系と、を有するマルチビーム走査光学系において、該複数の発散光束もしくは収束光束の副走査方向の相対的な位置を調整することによって、該複数の光束の該被走査面上における副走査方向の相対的な結像位置を調整する調整手段を有していることを特徴とするマルチビーム走査光学系。

IPC (4件)：

G02B 26/10 , B41J 2/44 , H04N 1/036 , H04N 1/113

FI (4件)：

G02B 26/10 B , H04N 1/036 A , B41J 3/00 D , H04N 1/04 104 A

Fターム (40件)：

2C362AA13 , 2C362AA14 , 2C362AA43 , 2C362AA48 , 2C362BA61 , 2C362BA84 , 2C362BA90 , 2C362DA03 , 2H045AA01 , 2H045BA22 , 2H045BA33 , 2H045CA03 , 2H045CB65 , 2H045DA02 , 5C051AA02 , 5C051CA07 , 5C051DA02 , 5C051DB02 , 5C051DB22 , 5C051DB24 , 5C051DB30 , 5C051DC02 , 5C051DC04 , 5C051DC07 , 5C051DE21 , 5C051FA01 , 5C072AA03 , 5C072BA03 , 5C072BA13 , 5C072DA02 , 5C072DA04 , 5C072DA10 , 5C072DA21 , 5C072HA02 , 5C072HA06 , 5C072HA09 , 5C072HA13 , 5C072HB20 , 5C072XA01 , 5C072XA05

引用特許：

審査官引用 (8件)

マルチビーム走査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-302172 出願人：株式会社リコー
マルチビーム記録装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-270084 出願人：株式会社リコー
光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-334880 出願人：株式会社リコー

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