特許
J-GLOBAL ID:200903006473038254

撮像装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-132810
公開番号(公開出願番号):特開2003-329777
出願日: 2002年05月08日
公開日(公表日): 2003年11月19日
要約:
【要約】【課題】 放射線の影響による画質の劣化を課題とする。【解決手段】 放射線パルスが所定の間隔で順次発生される撮像装置であって、被写体像を撮像する複数の画素を有する撮像領域と、前記撮像領域を走査するための走査手段と、前記放射線パルスが発生していない期間に、前記走査回路が前記撮像領域を走査するように制御する制御手段とを有することを特徴とする撮像装置を提供する。
請求項(抜粋):
放射線パルスが所定の間隔で順次発生される撮像装置であって、被写体像を撮像する複数の画素を有する撮像領域と、前記撮像領域を走査するための走査手段と、前記放射線パルスが発生していない期間に、前記走査回路が前記撮像領域を走査するように制御する制御手段と、を有することを特徴とする撮像装置。
IPC (4件):
G01T 1/20 ,  A61B 6/00 300 ,  H04N 5/32 ,  H04N 5/335
FI (4件):
G01T 1/20 G ,  A61B 6/00 300 S ,  H04N 5/32 ,  H04N 5/335 Z
Fターム (23件):
2G088EE01 ,  2G088FF02 ,  2G088FF04 ,  2G088FF05 ,  2G088FF06 ,  2G088GG19 ,  2G088JJ05 ,  4C093AA01 ,  4C093EA02 ,  4C093EB12 ,  4C093EB13 ,  4C093EB17 ,  4C093EB20 ,  4C093FA19 ,  4C093FA32 ,  4C093FA43 ,  5C024AX12 ,  5C024AX16 ,  5C024AX17 ,  5C024GX01 ,  5C024GY31 ,  5C024HX01 ,  5C024JX41
引用特許:
審査官引用 (6件)
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