特許

J-GLOBAL ID：200903006492060287

プラズマ洗浄方法及び装置

発明者： 西野 賢一 ,  馬屋原 潔 ,  伊田 雅之 ,  辻 慎治郎 ,  西本 智隆
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-290648
公開番号（公開出願番号）：特開2000-117213
出願日： 1998年10月13日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
要約：

【要約】【課題】 洗浄すべき個所のみを効率的に洗浄することができ、反応ガスを効率良く使用することができるプラズマ洗浄方法及び装置を提供する。【解決手段】 反応ガスと高周波電力をプラズマ照射ノズル1に供給してその先端からプラズマ6を発生させ、上記発生したプラズマを対象物12の洗浄すべき被洗浄部分12aに照射して、照射されたプラズマにより上記被洗浄部分を洗浄する。

請求項（抜粋）：

反応ガスと高周波電力をプラズマ照射ノズル(1)に供給してその先端からプラズマ(6)を発生させ、上記発生したプラズマを対象物(12)の洗浄すべき被洗浄部分(12a)に照射して、照射されたプラズマにより上記被洗浄部分を洗浄するようにしたことを特徴とするプラズマ洗浄方法。

Fターム (10件)：

3B116AA46 ,  3B116AB42 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB55 ,  3B116BB72 ,  3B116BB75 ,  3B116BB81 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ドライ洗浄方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-347129   出願人：セイコーエプソン株式会社, 森勇藏
• 表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-154741   出願人：西山ステンレスケミカル株式会社