特許
J-GLOBAL ID：200903006519331083
多層ホトレジストプロセスのための熱硬化性ポリエステル抗反射コーティング
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萼 経夫 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-517316
公開番号（公開出願番号）：特表2001-521187
出願日： 1998年10月20日
公開日（公表日）： 2001年11月06日
要約：
【要約】多層フォトレジストプロセスのための熱可塑性ポリエステル抗反射コーティングを提供する。【解決手段】 高い光学密度、迅速なプラズマエッチ速度、好ましい溶媒における高い溶解性、優秀な像被覆面積、および改良された溶媒中安定性を示す、熱硬化性下層適用性ポリマー抗反射コーティングについて記載する。これらの新規反射コーティングの主成分は、二官能性脂肪族カルボン酸の一種もしくはそれ以上と二-および/または三官能性脂肪族第一アルコールの化学量論的過剰量との反応により製造されたポリエステル樹脂であって、ジカルボン酸の少なくとも一種が反応性メチレン基(-CH2-)を含み得るものである。該樹脂に存在する反応性メチレン基(存在する場合は)および/またはヒドロキシ基の幾つか、または全てに吸光基を結合させることにより、得られたポリエステル樹脂反応生成物を更に変性する。適当な溶媒系で、上記染料が結合したポリエステル樹脂をアミノプラスト架橋剤および酸触媒と組み合わせ、最終抗反射コーティングを形成させる。
請求項（抜粋）：
a.以下の構造:【化1】(式中、mは1以上100以下であり;R1は二価の有機基を表し;R2は二価または三価の有機基を表し;R2が二価である場合、Bは-Hを表し、そしてR2が三価である場合、Bは-OHまたは-O-CO-R3を表し;Aは-Hまたは-CO-R3を表し;そしてR3は、次の光の波長:193nm、248nm、365nmおよび436nmの中の一つ、もしくはそれ以上について、その波長またはその付近において吸光力を有する芳香族有機基を表す。)を有するヒドロキシル官能性高級脂肪族ポリエステル樹脂であって;得られる生成物が下部層(bottom layer)抗反射コーティング用途に有効な光吸収特性を有するもの; b.メラミン、尿素、ベンゾグアナミン、またはグリコールウリルから誘導されたアルキル化アミノプラスト架橋剤; c.プロトン酸硬化触媒; d.低ないし中温で沸騰するアルコール含有溶媒系であって、該アルコールが全溶媒含有量の少なくとも20重量%含まれるもの;および e.ソリッド含有量で約50ないし90重量%のヒドロキシル官能性ポリエステル樹脂、約10ないし50重量%のアミノプラスト架橋剤、および約0.1ないし10重量%のプロトン酸触媒からなる熱硬化性組成物;からなる改良された抗反射コーティング組成物であって;改良された抗反射コーティングが、ヒドロキシル官能性樹脂の連結構造が高級芳香族である抗反射コーティングよりも、ノボラックおよびポリ(ヒドロキシスチレン)をベースとするホトレジストに対して高いプラズマエッチ選択性を有する組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/11 501
, C08G 63/54
G03F 7/11 501
, C08G 63/54
2H025AA06
, 2H025AA11
, 2H025AA16
, 2H025AA18
, 2H025AB16
, 2H025DA34
, 4J029AA01
, 4J029AA07
, 4J029AB01
, 4J029AB04
, 4J029AC02
, 4J029BA03
, 4J029BD07A
, 4J029CA01
, 4J029CA03
, 4J029FC04
, 4J029FC05
, 4J029KH01
