特許

J-GLOBAL ID：200903069597149030

反射防止膜形成用組成物

発明者： 楠本 士朗 ,  島 基之 ,  勇元 喜次 ,  辻 昭
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-146524
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043839
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：

【要約】【課題】 保存安定性に優れ、反射防止膜中の放射線吸収性材料が昇華せず、かつホトレジストとのインターミキシングを生じることがなく、ホトレジストと協働して、耐熱性、乾式エッチング性、解像度、精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成用組成物を提供する。【解決手段】 (a)放射線吸収性を有する非昇華性微粒子、(b)高分子分散剤および(c)有機溶剤を含有し、前記非昇華性微粒子が有機溶剤中に分散していることを特徴とする集積回路素子の製造に用いられる反射防止膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(a)放射線吸収性を有する非昇華性微粒子、(b)高分子分散剤および(c)有機溶剤を含有し、前記非昇華性微粒子が有機溶剤中に分散していることを特徴とする集積回路素子の製造に用いられる反射防止膜形成用組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/30 574

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 二層構造レジストを有する基板およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-214271   出願人：東レ株式会社
• 特開平4-294520
  
• 反射防止膜材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088202   出願人：信越化学工業株式会社