特許

J-GLOBAL ID：200903006574558747

パターン転写装置及びデバイス製造方法

発明者： 川上 英悟
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 藤元 亮輔 ,  水本 敦也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-144011
公開番号（公開出願番号）：特開2009-286085
出願日： 2008年06月02日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：

【課題】 スループットを向上させたパターン転写装置を提供する。【解決手段】 本発明は、パターンが形成されたモールド10をウエハ1上の樹脂60に押し付け、モールド10を樹脂60から離型することによってパターンをウエハ1に転写するパターン転写装置であって、モールド10の除電を行うイオナイザのノズル30、31と、モールド10の電位を検出する表面電位センサ70とを有し、イオナイザのノズル30、31は、表面電位センサ70により検出されたモールド10の電位が所定値以上の場合にモールド10の除電を行う。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

パターンが形成された型を基板上の樹脂に押し付け、前記型を前記樹脂から離型することによって前記パターンを前記基板に転写するパターン転写装置であって、 前記型の除電を行う除電手段と、 前記型の電位を検出する電位検出手段とを有し、 前記除電手段は、前記電位検出手段により検出された前記型の電位が所定値以上の場合に前記型の除電を行うことを特徴とするパターン転写装置。

IPC (4件)：

B29C 33/38 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B29C 59/02

FI (4件)：

B29C33/38 ,  H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B29C59/02 Z

Fターム (30件)：

2H097AA20 ,  4F202AA44 ,  4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH33 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AM25 ,  4F202AM29 ,  4F202AP15 ,  4F202AR16 ,  4F202CA01 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AM25 ,  4F209AM29 ,  4F209AP15 ,  4F209AR16 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 樹脂の剥離方法及びパターン転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-291851   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (3件)

• 樹脂の剥離方法及びパターン転写装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-291851   出願人：株式会社ニコン
• 生産設備付帯装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-251539   出願人：株式会社ユーシン精機, 株式会社ワイズ
• 除電器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-182696   出願人：株式会社ユーシン精機