特許
J-GLOBAL ID：200903006712212466
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-171896
公開番号（公開出願番号）：特開2005-326796
出願日： 2004年05月14日
公開日（公表日）： 2005年11月24日
要約：
【課題】本発明が解決しようとする課題は、被露光試料の側表面を高い生産性にて露光でき、安価に量産に適用でき、かつ、被露光試料の側表面に高い角度精度でパターンを形成できる投影露光装置を提供できるようにすることである。【解決手段】 原図基板上のパターンを被露光試料の側表面に投影露光する投影光学系と、被露光試料を中心軸回りに回転する回転ステージと、被露光試料を回転ステージの回転軸と垂直の方向に移動し回転ステージの回転軸に対する該被露光試料の中心軸位置を調整する偏芯補正ステージを設ける。また、場合によっては、被露光試料の側表面の露光すべき位置を投影光学系の光軸に垂直な方向に向ける傾斜ステージを設ける。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原図基板上のパターンを被露光試料の側表面に投影露光する投影光学系と、前記被露光試料を中心軸回りに回転する回転ステージと、該被露光試料を前記回転ステージの回転軸と垂直の方向に移動し該回転ステージの回転軸に対する該被露光試料の中心軸位置を調整する偏芯補正ステージを有することを特徴とする投影露光装置
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
2H097AA16
, 2H097AB08
, 2H097BA01
, 2H097BA02
, 2H097BB04
, 2H097LA15
, 2H097LA20
