特許

J-GLOBAL ID：200903006779100697

プラズマエッチング装置のガス吹き出し板

発明者： 阿部 英人
出願人/特許権者： イビデン株式会社
代理人 (1件)： 安富 康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-093572
公開番号（公開出願番号）：特開2005-285846
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月13日
要約：

【課題】 長期間にわたってプラズマ中に反応ガスを均一な方向、及び、均一な量で吹き出させることができるとともに、プラズマが逆流することを防止することができるプラズマエッチング装置のガス吹き出し板を提供すること。【解決手段】 電極板の一部を構成し、その内部に反応ガスを流通させることができるプラズマエッチング装置のガス吹き出し板であって、多数の貫通孔が形成され、上記貫通孔の孔径が0.4mm以下であることを特徴とするプラズマエッチング装置のガス吹き出し板。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

電極板の一部を構成し、その内部に反応ガスを流通させることができるプラズマエッチング装置のガス吹き出し板であって、 多数の貫通孔が形成され、 前記貫通孔の孔径が0.4mm以下であることを特徴とするプラズマエッチング装置のガス吹き出し板。

IPC (1件)：

H01L21/3065

FI (1件)：

H01L21/302 101G

Fターム (6件)：

5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BB32 ,  5F004BC03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 傾斜貫通細孔を有するプラズマエッチング用シリコン電極板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-242853   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-247948   出願人：アネルバ株式会社
• プラズマエッチング装置のガス吹き出し板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-243758   出願人：イビデン株式会社