特許
J-GLOBAL ID:200903006907414179
マイクロミラー素子およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
吉田 稔 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-129596
公開番号(公開出願番号):特開2002-328316
出願日: 2001年04月26日
公開日(公表日): 2002年11月15日
要約:
【要約】【課題】 トーションバーの設計仕様に多様性をもたせることができるとともに、トーションバーの各部を所望の寸法に正確に仕上げることができるマイクロミラー素子およびマイクロミラー素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 マイクロミラー素子の製造において、基板110′上に、フレーム113およびミラー形成部111へと加工される箇所をマスクするための第1のマスクパターン10を形成する工程と、基板110′上に、架橋部112へと加工される箇所をマスクするための第2のマスクパターン20を形成する工程と、第1および第2のマスクパターン10,20をマスクとして、基板110′に対して第1のエッチング処理を行う工程と、第2のマスクパターン20を選択的に除去する工程と、第1のマスクパターン10をマスクとして、基板110′に対して第2のエッチング処理を行う工程と、第1のマスクパターン10を除去する工程と、を含めることとした。
請求項(抜粋):
フレームと、ミラー形成部と、当該フレームおよびミラー形成部を連結するトーションバーを含む架橋部と、を備えるマイクロミラー素子を製造するための方法であって、基板上に、前記フレームおよび前記ミラー形成部へと加工される箇所をマスクするための第1のマスクパターンを形成する工程と、前記基板上に、前記架橋部へと加工される箇所をマスクするための第2のマスクパターンを形成する工程と、前記第1および第2のマスクパターンをマスクとして、前記基板に対して第1のエッチング処理を行う工程と、前記第2のマスクパターンを選択的に除去する工程と、前記第1のマスクパターンをマスクとして、前記基板に対して第2のエッチング処理を行う工程と、前記第1のマスクパターンを除去する工程と、を含むことを特徴とする、マイクロミラー素子の製造方法。
IPC (4件):
G02B 26/08
, B81B 3/00
, B81C 1/00
, G11B 7/09
FI (4件):
G02B 26/08 E
, B81B 3/00
, B81C 1/00
, G11B 7/09 E
Fターム (11件):
2H041AA11
, 2H041AB14
, 2H041AC06
, 2H041AZ01
, 2H041AZ08
, 5D118AA06
, 5D118BA01
, 5D118DC07
, 5D118EA00
, 5D118EF03
, 5D118EF07
引用特許:
出願人引用 (4件)
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構造体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-132690
出願人:株式会社日立製作所, 日立オートモテイブエンジニアリング株式会社
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容量型加速度センサの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-269095
出願人:株式会社ゼクセル
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光スキャナー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-239665
出願人:キヤノン株式会社
-
静電力駆動光走査装置とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-218329
出願人:松下電器産業株式会社
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審査官引用 (5件)
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構造体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-132690
出願人:株式会社日立製作所, 日立オートモテイブエンジニアリング株式会社
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光スキャナー
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-239665
出願人:キヤノン株式会社
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容量型加速度センサの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-269095
出願人:株式会社ゼクセル
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