特許
J-GLOBAL ID：200903006907414179

マイクロミラー素子およびその製造方法

発明者：
壷井 修

壷井 修 について

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上田 知史

上田 知史 について

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水野 義博

水野 義博 について

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佐脇 一平

佐脇 一平 について

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山岸 文雄

山岸 文雄 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について

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富士通メディアデバイス株式会社

富士通メディアデバイス株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-129596
公開番号（公開出願番号）：特開2002-328316
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：
【要約】【課題】 トーションバーの設計仕様に多様性をもたせることができるとともに、トーションバーの各部を所望の寸法に正確に仕上げることができるマイクロミラー素子およびマイクロミラー素子の製造方法を提供すること。【解決手段】 マイクロミラー素子の製造において、基板110′上に、フレーム113およびミラー形成部111へと加工される箇所をマスクするための第1のマスクパターン10を形成する工程と、基板110′上に、架橋部112へと加工される箇所をマスクするための第2のマスクパターン20を形成する工程と、第1および第2のマスクパターン10,20をマスクとして、基板110′に対して第1のエッチング処理を行う工程と、第2のマスクパターン20を選択的に除去する工程と、第1のマスクパターン10をマスクとして、基板110′に対して第2のエッチング処理を行う工程と、第1のマスクパターン10を除去する工程と、を含めることとした。
請求項（抜粋）：
フレームと、ミラー形成部と、当該フレームおよびミラー形成部を連結するトーションバーを含む架橋部と、を備えるマイクロミラー素子を製造するための方法であって、基板上に、前記フレームおよび前記ミラー形成部へと加工される箇所をマスクするための第1のマスクパターンを形成する工程と、前記基板上に、前記架橋部へと加工される箇所をマスクするための第2のマスクパターンを形成する工程と、前記第1および第2のマスクパターンをマスクとして、前記基板に対して第1のエッチング処理を行う工程と、前記第2のマスクパターンを選択的に除去する工程と、前記第1のマスクパターンをマスクとして、前記基板に対して第2のエッチング処理を行う工程と、前記第1のマスクパターンを除去する工程と、を含むことを特徴とする、マイクロミラー素子の製造方法。
IPC (4件)：
G02B 26/08 ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  G11B 7/09
FI (4件)：
G02B 26/08 E ,  B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  G11B 7/09 E
Fターム (11件)：
2H041AA11 ,  2H041AB14 ,  2H041AC06 ,  2H041AZ01 ,  2H041AZ08 ,  5D118AA06 ,  5D118BA01 ,  5D118DC07 ,  5D118EA00 ,  5D118EF03 ,  5D118EF07
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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