特許
J-GLOBAL ID：200903006942773424
イオン照射装置
出願人/特許権者：
日本真空技術株式会社
日本真空技術株式会社 について
代理人 (1件)： 飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-191065
公開番号（公開出願番号）：特開平8-036100
出願日： 1994年07月21日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】[目的] イオン加速装置の加速管の前後で生成されている不要イオンビームを除去し、試料上に到達する所要イオンビームの純度を上げるようにしたイオン照射装置を提供すること。[構成] 高電圧ターミナル42と遮蔽箱41の間にある加速管60の下流側に一対の偏向電極板2a、2bと、Y方向走査プレート67の上流側にY方向走査プレート保護板7と、X方向走査プレート68の上流側にX方向走査プレート保護板8とが配設されている。一対の偏向電極板2a、2bによって形成された電場により所望イオンビームは所定角度偏向され、X方向走査プレート67、Y方向走査プレート68の中心軸上を走行し試料72上に照射されるが、不純物イオンビームは所定角度には偏向されないので、Y方向走査プレート保護板7ないしX方向走査プレート保護板8に遮断され、試料72上に到達しない。
請求項（抜粋）：
少なくともイオン源及び質量分離磁石を内蔵させたケーシングを地上より所定の高さに配設させ、高電圧電源装置により前記ケーシングに所定の高電圧を印加し、前記ケーシングと、該ケーシングを電磁気的に遮蔽するシールドボックスとの間に加速管を接続したイオン加速装置と、該イオン加速装置の前記加速管側に接続され、該加速管から導出されるイオンビームを該加速管の軸方向に対し第1方向に第1の所定角度を偏向させる第1電場形成手段と、前記第1方向に対し直角である第2方向に第2の所定角度を偏向させる第2電場形成手段と、該第2電場形成手段から導出されるイオンビームを照射される試料を配設させている照射室とを備えたイオン照射装置において、前記加速管と前記第1電場形成手段との間に前記加速管の軸方向に関し、所要イオンビームを前記第1電場形成手段に向かうように第3の所定角度を偏向させる不要イオンビーム除去用電場又は磁場形成手段と、該電場又は磁場形成手段と前記第1電場形成手段との間にスリット形成手段を設け、該スリット形成手段に前記電場又は磁場形成手段により前記第3の所定角度で偏向されなかった不要のイオンビームを衝突させ、該スリット形成手段を前記第3の所定角度で偏向した所要のイオンビームのみを通過させるようにしたことを特徴とするイオン照射装置。
IPC (4件)：
FI (3件)：
引用特許：
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