特許

J-GLOBAL ID：200903007022223992

セメントキルン塩素・硫黄バイパス

発明者： 上野 直樹 ,  原田 宏 ,  齋藤 紳一郎 ,  岡村 聰一郎 ,  鈴木 崇幸
出願人/特許権者： 太平洋セメント株式会社
代理人 (1件)： 中井 潤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-359440
公開番号（公開出願番号）：特開2004-002143
出願日： 2002年12月11日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

【課題】設備コストを低く抑え、セメントキルンより抽気した燃焼ガスに含まれる硫黄分を除去し、有効利用することのできるセメントキルン塩素・硫黄バイパスを提供する。【解決手段】セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを湿式集塵装置3で溶媒を用いて集塵する。湿式集塵装置3で集塵された集塵ダストスラリーの少なくとも一部をセメントミル系へ添加することができ、湿式集塵装置3で集塵された集塵ダストスラリーを固液分離し、得られた脱塩ダストケークをセメントミル系へ、また、分離した塩水の少なくとも一部をセメントミル系へ添加してもよい。湿式集塵装置3には、ミキシングスクラバー26等を使用することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

セメントキルンのキルン尻からボトムサイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気し、抽気ガス中のダストの粗粉を分離し、微粉を含む抽気ガスを湿式集塵装置で溶媒を用いて集塵することを特徴とするセメントキルン塩素・硫黄バイパス。

IPC (3件)：

C04B7/60 ,  B01D47/00 ,  B07B7/08

FI (3件)：

C04B7/60 ,  B01D47/00 Z ,  B07B7/08

Fターム (7件)：

4D021FA25 ,  4D021GA06 ,  4D021GA16 ,  4D021GB03 ,  4D032AC08 ,  4D032BA01 ,  4D032BB16

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 排気除害システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-219518   出願人：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
• セメント製造装置抽気ダストの処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-107323   出願人：宇部興産株式会社
• セメント原料化処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-156202   出願人：太平洋セメント株式会社
• バイパスダストの塩素濃度調整装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-314576   出願人：太平洋セメント株式会社