特許
J-GLOBAL ID：200903007332578111
磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-195762
公開番号（公開出願番号）：特開平11-039614
出願日： 1997年07月22日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：
【要約】【課題】 全体の厚さを薄くしても優れた絶縁耐圧特性を有する絶縁膜を得ることができるようにして、記録密度の高い情報記憶装置が得られるようにする。【解決手段】 磁気抵抗センサ(MRセンサ)の上下に絶縁膜を積層して形成するとき、アルミナ(Al2 O3 )または酸化タンタリウム(Ta2 O5 )または酸化ジルコニウム(ZrO2 )または酸化珪素(SiO2 )または酸化チタニウム(TiO)または酸化ハフニウム(HfO2 )または酸化ニオビウム(NbO5 )から選んだ2種類の酸化物を用い、それらを所定の厚さで交互に複数段積層して全体の厚さを所定の厚さとする。
請求項（抜粋）：
磁気抵抗センサの上下に一対の絶縁膜を設けた磁気ヘッドにおいて、前記一対の絶縁膜を、それぞれ所定の厚さの2種類の無機絶縁材料を交互に複数段積層して全体を所定の厚さとしたことを特徴とする磁気ヘッド。
引用特許：
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