エリプソメータおよび分光エリプソメータ

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-127923
公開番号（公開出願番号）：特開2005-308612
出願日： 2004年04月23日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】従来のエリプソメータにおける駆動部を無くし、小型で高速かつ高精度な偏光解析装置および分光偏光解析装置を実現する。【解決手段】主軸方向が異なる複数の偏光子を配列した偏光子アレイ1枚と、CCDなどの受光素子アレイとを組み合わせることによって「回転検光子型」の偏光解析装置を構成する。または、主軸方向が異なる複数の波長板を配列した波長板アレイ1枚と、主軸方向が一定の偏光子1枚を重なるように配置し、受光素子アレイと組み合わせることによって「回転位相子型」お偏光解析装置を構成する。これらの偏光解析装置と回折格子などの分散デバイスを組み合わせることによって、小型でシンプルな分光偏光解析装置を実現することが可能となる。【選択図】図12

請求項（抜粋）：

主軸方向の異なる複数の偏光子領域からなる偏光子アレイと複数の受光素子からなる受光素子アレイとの2つ光学素子によって構成され、前記の偏光子アレイの各偏光子領域を通過した光をそれぞれ個別に受光することができるように前記の受光素子アレイを配置したことを特徴とする偏光解析装置。

IPC (4件)：

G01J4/04 , G01J3/447 , G01N21/21 , G01N21/27

FI (4件)：

G01J4/04 Z , G01J3/447 , G01N21/21 Z , G01N21/27 A

Fターム (55件)：

2F065AA30 , 2F065BB01 , 2F065BB17 , 2F065CC17 , 2F065CC31 , 2F065DD02 , 2F065DD06 , 2F065FF41 , 2F065FF50 , 2F065GG04 , 2F065GG24 , 2F065HH04 , 2F065HH08 , 2F065JJ02 , 2F065JJ03 , 2F065JJ25 , 2F065JJ26 , 2F065LL33 , 2F065LL36 , 2F065LL42 , 2F065QQ25 , 2F065TT08 , 2G020AA03 , 2G020AA04 , 2G020AA05 , 2G020BA02 , 2G020BA18 , 2G020BA20 , 2G020CA15 , 2G020CB23 , 2G020CC02 , 2G020CC29 , 2G020CC63 , 2G020CD06 , 2G020CD15 , 2G020CD24 , 2G059AA02 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059EE12 , 2G059FF01 , 2G059GG01 , 2G059GG04 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059JJ01 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK04

引用特許：

出願人引用 (4件)

偏光解析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-411786 出願人：株式会社フォトニックラティス
偏光解析装置を用いた偏光解析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-407485 出願人：株式会社フォトニックラティス
3次元周期構造体及びその作製方法並びに膜の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-040736 出願人：川上彰二郎

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