特許

J-GLOBAL ID：200903007413853095

ホットプレートの温度制御方法

発明者： 宮本 英典 ,  上田 康爾 ,  青木 泰一郎
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 小山 有 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-330254
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162822
出願日： 1997年12月01日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 目標温度に対して必要以上なオーバシュートを生じさせず、ホットプレートの表面温度を迅速に安定化させ、必要な熱エネルギーを所定時間内にウェーハに与えること。【解決手段】 レジストを塗布したウェーハを加熱処理するホットプレートの温度制御方法において、ホットプレートの目標温度として制御装置に第1目標温度r1と第2目標温度r2を設定し、ウェーハがホットプレートに搬入されてから搬出されるまでの間、第1目標温度r1と第2目標温度r2を対応する第1設定時間T1又は第2設定時間T2の経過時に互いに切り替える。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布したウェーハを加熱処理するホットプレートの温度制御方法において、前記ホットプレートの目標温度を制御装置に複数設定し、前記ウェーハが前記ホットプレートに搬入されてから搬出されるまでの間、前記目標温度を予め設定した設定時間経過時に切り替えることを特徴とするホットプレートの温度制御方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G05D 23/19

FI (2件)：

H01L 21/30 567 ,  G05D 23/19 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平3-136231
  
• 基板熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-101491   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板冷却装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-100339   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-169367
  

審査官引用 (4件)

• 特開平3-136231
  
• 基板熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-101491   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板冷却装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-100339   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平3-169367