特許
J-GLOBAL ID：200903007434589835

静電苛像現像剤

発明者：
紺谷 義治

紺谷 義治 について

, 
渡邊 浩一朗

渡邊 浩一朗 について

, 
上野 進

上野 進 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-353135
公開番号（公開出願番号）：特開2003-156872
出願日： 2001年11月19日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：
【要約】【解決手段】 シロキサンとケイ素を含まない異種金属M1、M2の2種類の有機金属化合物とを同時に火炎中で噴霧燃焼して得られ、実質的に塩素を含まず、粒子径が10〜500nm、カーボンを除く酸化物基準でのシリカの含有量Aが1〜99重量%、M1酸化物の含有量Bが1〜90重量%、M2酸化物の含有量Cが1〜90重量%含まれ、A+B+Cが実質的に100重量%である非晶質球状の3成分系複合酸化物微粒子を含有することを特徴とする静電苛像現像剤。【効果】 本発明の静電苛像現像剤は、流動性、クリーニング性に優れ、帯電量が均一かつ安定したものである。
請求項（抜粋）：
シロキサンとケイ素を含まない異種金属M1、M2の2種類の有機金属化合物とを同時に火炎中で噴霧燃焼して得られ、実質的に塩素を含まず、粒子径が10〜500nm、カーボンを除く酸化物基準でのシリカの含有量Aが1〜99重量%、M1酸化物の含有量Bが1〜90重量%、M2酸化物の含有量Cが1〜90重量%含まれ、A+B+Cが実質的に100重量%である非晶質球状の3成分系複合酸化物微粒子を含有することを特徴とする静電苛像現像剤。
IPC (3件)：
G03G 9/08 374 ,  G03G 9/08 372 ,  G03G 9/08 375
FI (3件)：
G03G 9/08 374 ,  G03G 9/08 372 ,  G03G 9/08 375
Fターム (7件)：
2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA26 ,  2H005CB03 ,  2H005CB07 ,  2H005CB13 ,  2H005EA07
引用特許：
審査官引用 (11件)
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