特許

J-GLOBAL ID：200903007439336730

処理液吐出ノズル及びそれを備えた基板処理装置

発明者： 橋本 光治 ,  三橋 毅 ,  長田 直之 ,  和田 卓也
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-326043
公開番号（公開出願番号）：特開平11-156278
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】【課題】 処理液吐出ノズルの処理液溜まり内に発生するエアを排除する処理液吐出ノズルおよびそれを備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理液吐出ノズル4は、処理液を送液する送液管41に連通接続された筐体40で構成されている。この筐体40の内部の空間である処理液溜まり40aの天井面40cは、エア抜き孔40dに向かって上昇した傾斜面で形成されている。処理液溜まり40a内で発生・成長したエアは、自分自身の浮力によって天井面40cに沿って、エア抜き孔40dにまで誘導される。さらに、送液管41から供給される処理液は、吐出孔40bだけでなくエア抜き孔40dからも抜けるので、天井面40cに付着するエアは、エア抜き孔40dに流れ込む処理液のよって押し流され、エア抜き孔40dに連結された廃液管42から排出される。

請求項（抜粋）：

送液管から供給される処理液で、筐体内の空間である処理液溜まりが満たされ、この処理液溜まりに連通するように形成された、筐体の下面の複数個の吐出孔から基板に向けて処理液を吐出するように構成された処理液吐出ノズルにおいて、前記筐体は、その上面に前記処理液溜まりに連通するエア抜き孔を備えていることを特徴とする処理液吐出ノズル。

IPC (5件)：

B05C 11/08 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (5件)：

B05C 11/08 ,  B08B 3/02 B ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 基板端縁洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-112034   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-289249   出願人：東京エレクトロン株式会社