特許
J-GLOBAL ID:200903007456145906
ガスセンサ
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
山口 巖 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-358023
公開番号(公開出願番号):特開2002-162373
出願日: 2000年11月24日
公開日(公表日): 2002年06月07日
要約:
【要約】【課題】 温湿度環境の変化に対してもセンサ抵抗変動の少ない、耐久性に優れたガスセンサを提供する。【解決手段】 基板上に電極5を形成しその上にガス検知膜6を設けたガスセンサにおいて、上記電極5に一定のテーパ角を付けることにより、電極5の凹凸に依らず連続して均一なガス検知膜6が形成できるようにする。
請求項(抜粋):
薄膜状の支持膜の外周部または両端部をSi基板により支持し、外周部または両端部が厚く、中央部が薄く形成されたダイアフラム様の支持基板上に、電極と、この電極の上にガス検知膜を備えたガスセンサにおいて、前記電極にテーパ角を持たせ、段差を含む電極表面の凹凸にかかわらず均一なガス検知膜を形成可能にしたことを特徴とするガスセンサ。
IPC (2件):
FI (2件):
G01N 27/12 B
, G01N 27/16 B
Fターム (18件):
2G046BA01
, 2G046BB02
, 2G046BC05
, 2G046BE08
, 2G046BJ07
, 2G046EA09
, 2G046FB00
, 2G046FE31
, 2G046FE39
, 2G046FE41
, 2G046FE46
, 2G060AA01
, 2G060AE19
, 2G060AF07
, 2G060BA01
, 2G060BA03
, 2G060BB01
, 2G060JA01
引用特許:
審査官引用 (4件)
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薄膜ガスセンサの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-231837
出願人:富士電機株式会社
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薄膜ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-304901
出願人:富士電機株式会社
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薄膜ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-096952
出願人:富士電機株式会社
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薄膜ガスセンサ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-096271
出願人:富士電機株式会社
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