特許
J-GLOBAL ID：200903007476768969

モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法

発明者：
高階 裕

高階 裕 について


出願人/特許権者：
日本曹達株式会社

日本曹達株式会社 について

, 
茨城化成株式会社

茨城化成株式会社 について


代理人 (1件)： 大石 治仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-078115
公開番号（公開出願番号）：特開2002-348274
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：
【要約】【課題】高純度なモノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンを工業的に有利に製造する方法を提供する。【解決手段】式(I)で表される化合物を含む水溶液のpHを所定値(P1)に調整して有機溶媒で抽出後、有機層と水層とに分液する工程と、分液した有機層に水又は一定のpH値に調整された水を加え、水層のpHを所定値(P2)に調整して有機層を分取する工程とを有することを特徴とする式(I)で表される化合物の製造方法。【化1】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立してハロゲン原子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C8アルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立して0又は1〜4の整数を表し、R3は、C1〜C8アルキル基、C2〜C8アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又は置換基を有してもよいアラルキル基を表す。)
請求項（抜粋）：
式(I)【化1】(式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C8アルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立して0又は1〜4の整数を表し、R3は、C1〜C8アルキル基、C2〜C8アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又は置換基を有してもよいアラルキル基を表す。)で表される化合物を含む水溶液のpHを所定値(P1)に調整して有機溶媒で抽出後、有機層と水層とに分液する工程と、分液した有機層に水又は一定のpH値に調整された水を加え、水層のpHを所定値(P2)に調整して有機層を分取する工程とを有することを特徴とする式(I)で表される化合物の製造方法。
IPC (3件)：
C07C315/04 ,  C07C315/06 ,  C07C317/22
FI (3件)：
C07C315/04 ,  C07C315/06 ,  C07C317/22
Fターム (13件)：
4H006AA02 ,  4H006AC43 ,  4H006AD16 ,  4H006BA92 ,  4H006BB10 ,  4H006BB31 ,  4H006BB46 ,  4H006BC53 ,  4H006BD60 ,  4H006BE10 ,  4H006TA02 ,  4H006TB13 ,  4H006TC32
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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