特許
J-GLOBAL ID:200903007494151774
無アルカリガラス基板
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-001922
公開番号(公開出願番号):特開2008-184335
出願日: 2007年01月10日
公開日(公表日): 2008年08月14日
要約:
【課題】回路形成時にフォトマスクによる補正が可能な大型の無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。【解決手段】短辺、長辺ともに1500mm以上の無アルカリガラス基板において、常温から10°C/分の速度で昇温し、保持温度450°Cで10時間保持し、10°C/分の速度で降温(図1に示す温度スケジュールで熱処理)したときに、基板内の熱収縮率絶対値の最大値と最小値の差が5ppm以内となることを特徴とする。この基板は、成形時の冷却過程において、徐冷点から(徐冷点-100°C)の温度の範囲での平均冷却速度が、板幅方向の中央部分と端部とで100°C/分以内でとなるように調節することで作製可能である。【選択図】図3
請求項(抜粋):
短辺、長辺ともに1500mm以上の無アルカリガラス基板において、常温から10°C/分の速度で昇温し、保持温度450°Cで10時間保持し、10°C/分の速度で降温(図1に示す温度スケジュールで熱処理)したときに、基板内の熱収縮率絶対値の最大値と最小値の差が5ppm以内となることを特徴とする無アルカリガラス基板。
IPC (5件):
C03B 32/00
, C03C 3/087
, C03C 3/091
, C03C 3/085
, G02F 1/133
FI (5件):
C03B32/00
, C03C3/087
, C03C3/091
, C03C3/085
, G02F1/1333 500
Fターム (79件):
2H090JB02
, 2H090JC08
, 4G015EA00
, 4G062AA01
, 4G062BB01
, 4G062BB05
, 4G062BB06
, 4G062DA06
, 4G062DB03
, 4G062DB04
, 4G062DC01
, 4G062DC02
, 4G062DC03
, 4G062DC04
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EA10
, 4G062EB01
, 4G062EC01
, 4G062ED01
, 4G062ED02
, 4G062ED03
, 4G062ED04
, 4G062EE01
, 4G062EE02
, 4G062EE03
, 4G062EE04
, 4G062EF01
, 4G062EF02
, 4G062EF03
, 4G062EF04
, 4G062EG01
, 4G062EG02
, 4G062EG03
, 4G062EG04
, 4G062FA01
, 4G062FA10
, 4G062FB01
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM12
, 4G062MM27
, 4G062NN29
, 4G062NN34
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (6件)
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