特許
J-GLOBAL ID：200903007522907065

真空装置

発明者：
田中 雅彦

田中 雅彦 について


出願人/特許権者：
アネルバ株式会社

アネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 正次
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-210475
公開番号（公開出願番号）：特開2001-029773
出願日： 1999年07月26日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：
【要約】【課題】 CVD装置、スパッタ装置のように真空中で成膜を行う真空装置において、成膜プロセス中に真空装置内部の構造物表面に成膜された膜が、当該構造物の表面から剥がれにくくなるように真空装置内部構造物の表面が処理されている真空装置を提供することを目的としている。【解決手段】 本発明は、CVD装置、スパッタ装置のように真空中で成膜を行う真空装置において、真空装置内部の軟金属を材料として形成されている内部構造物を、表面にヘアーライン加工が施されている構造物とすることにより目的を達成するものである。
請求項（抜粋）：
真空装置内部の軟金属を材料として形成されている内部構造物が、表面にヘアーライン加工されている構造物であることを特徴とする真空装置。
IPC (5件)：
B01J 3/00 ,  B01J 19/00 ,  C23C 14/00 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205
FI (5件)：
B01J 3/00 K ,  B01J 19/00 L ,  C23C 14/00 B ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/205
Fターム (14件)：
4G075AA24 ,  4G075BC02 ,  4G075BC04 ,  4G075CA65 ,  4G075FA05 ,  4G075FB02 ,  4K029DA01 ,  4K030KA08 ,  4K030KA28 ,  5F045AA19 ,  5F045BB14 ,  5F045EB02 ,  5F045EB05 ,  5F045EF01
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM