特許
J-GLOBAL ID：200903084847508277
薄膜形成装置用部材の製造方法および該装置用部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-157351
公開番号（公開出願番号）：特開平10-330971
出願日： 1997年06月02日
公開日（公表日）： 1998年12月15日
要約：
【要約】【課題】 薄膜形成装置の内部を汚染させることなく、薄膜形成装置の内壁や装置の内部にある機器部材の表面に形成された堆積物の剥離を防止し、パーティクルの発生を抑制する技術の提供。【解決手段】 薄膜形成装置の内壁や装置の内部にある部材の一部の面または全面の不要な薄膜の堆積が生ずる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、マスキングを除去することにより形成した複数の凹凸を備える薄膜形成装置用部材の製造方法および薄膜形成装置用部材。
請求項（抜粋）：
薄膜形成装置の内壁または装置内にある部材の一部の面または全面の不要な薄膜の堆積が生ずる部分に、複数の凹凸が形成されるようにマスキングし、次にこれをエッチング加工した後、前記マスキングを除去して複数の凹凸を形成することを特徴とする薄膜形成装置用部材の製造方法。
IPC (3件)：
C23F 4/00
, H01L 21/205
, C23C 14/00
C23F 4/00 A
, H01L 21/205
, C23C 14/00 B
