特許
J-GLOBAL ID：200903007588458750
一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-091668
公開番号（公開出願番号）：特開2008-246387
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：
【課題】難分解性有機物を効率よく分解除去することができ、かつ後段における脱塩の負荷を抑制することができる一次純水製造プロセス水の処理方法を提供する。【解決手段】ペルオキソ硫酸を生成させる生成工程と、一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加工程と、該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する分解工程とを含むことを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。ペルオキソ硫酸を用いているため、ペルオキソ硫酸塩を用いる場合のように後段でこの塩を脱塩する必要がなく、脱塩の負荷が抑制される。ペルオキソ硫酸の生成工程を有するため、自己分解の進んでいないペルオキソ硫酸を用いることができる。このため、難分解性有機物を効率よく分解除去することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ペルオキソ硫酸を生成させる生成工程と、
一次純水製造プロセス水に対して該ペルオキソ硫酸を、ペルオキソ硫酸濃度が所定濃度となるように添加する添加工程と、
該添加工程を経た該一次純水製造プロセス水に紫外線を照射し、該一次純水製造プロセス水に含まれる有機物を分解除去する分解工程と
を含むことを特徴とする一次純水製造プロセス水の処理方法。
IPC (5件)：
C02F 1/72
, C02F 1/32
, B01D 61/04
, B01D 61/58
, C02F 1/44
C02F1/72 101
, C02F1/32
, B01D61/04
, B01D61/58
, C02F1/44 H
4D006GA03
, 4D006GA06
, 4D006KA01
, 4D006KA02
, 4D006KA52
, 4D006KA53
, 4D006KA72
, 4D006KB04
, 4D006KB11
, 4D006KB12
, 4D006KB17
, 4D006KB30
, 4D006PA01
, 4D006PB02
, 4D006PC03
, 4D037AA03
, 4D037AB01
, 4D037AB12
, 4D037BA18
, 4D037CA01
, 4D037CA03
, 4D037CA11
, 4D037CA15
, 4D050AA05
, 4D050AB07
, 4D050AB11
, 4D050AB17
, 4D050BB20
, 4D050BC09
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050BD06
, 4D050CA03
, 4D050CA06
, 4D050CA08
, 4D050CA09
出願人引用 (3件)
審査官引用 (3件)
-
有機物の除去方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-179653
出願人：鹿児島日本電気株式会社, 栗田工業株式会社
-
排水加熱分解システム
公報種別：公開公報
出願番号：特願2004-348935
出願人：栗田工業株式会社
-
有機物含有水の処理方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-113185
出願人：オルガノ株式会社
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