電子材料用洗浄水及び電子材料用洗浄液

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：内山充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-095995
公開番号（公開出願番号）：特開平11-293288
出願日： 1998年04月08日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】薬品の使用量が少なく、電子材料表面に付着した有機物汚染を効果的に除去することができる、SPM洗浄液に匹敵する有機物汚染除去性能を有する省資源型の電子材料用洗浄水、及び、SPM洗浄液を超える有機物汚染除去性能を有する電子材料用洗浄液を提供する。【解決手段】ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ一硫酸又はこれらの塩を純水に添加し、溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄水、及び、ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ一硫酸又はこれらの塩を、硫酸と過酸化水素水の混合液又はその希釈液に添加し、溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄液。

請求項（抜粋）：

ペルオキソ二硫酸、ペルオキソ一硫酸又はこれらの塩を純水に添加し、溶解してなることを特徴とする電子材料用洗浄水。

IPC (5件)：

C11D 7/60 , C11D 7/18 , C11D 7/54 , H01L 21/304 647 , B08B 3/08

FI (5件)：

C11D 7/60 , C11D 7/18 , C11D 7/54 , H01L 21/304 647 Z , B08B 3/08 A

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭63-216348
フォトレジスト膜の除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-162003 出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘
特開平4-127159

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