特許
J-GLOBAL ID:200903007636572322

静電容量式加速度センサ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-267804
公開番号(公開出願番号):特開平8-129026
出願日: 1994年10月31日
公開日(公表日): 1996年05月21日
要約:
【要約】【目的】 小型でしかも機械的強度に優れた静電容量式加速度センサを提供すること。【構成】 可動電極9を備えるマス部6を、p型単結晶シリコン基板2の表面に形成された凹部15内に変位可能に配置する。可動電極9に相対する位置に固定電極14を離間させて配設する。マス部6をその下面側から支持柱7によって弾性的に支承し、その側面側から4数の梁8によって弾性的に支承する。この構成であると、マス部6のダンピング特性が改善される。
請求項(抜粋):
可動電極(9)を備えるマス部(6)をシリコン基板(2)表面に形成された凹部(15)内に変位可能に配置し、前記可動電極(9)に相対する位置に固定電極(14)を離間させて配設した静電容量式加速度センサ(1)において、前記マス部(6)をその下面側から弾性的に支承する支持柱(7)と、同マス部(6)をその側面側から弾性的に支承する複数の梁(8)とを備えた静電容量式加速度センサ。
IPC (2件):
G01P 15/125 ,  H01L 29/84
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 静電容量の変化を利用したセンサ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-203875   出願人:岡田和廣
  • 特開平2-271261
  • 加速度センサ
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-076978   出願人:株式会社日立製作所
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