特許
J-GLOBAL ID：200903007639374670

プラズマ処理装置

発明者：
山内 健資

山内 健資 について

, 
菅井 秀郎

菅井 秀郎 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について

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財団法人名古屋産業科学研究所

財団法人名古屋産業科学研究所 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-335529
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142457
出願日： 2001年10月31日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：
【要約】【課題】入力されるマイクロ波パワーが広い範囲に亘る場合であってもチャンバ内に安定したプラズマを発生でき、ひいてはアッシングやエッチング等のプラズマ処理の安定性を向上することができるプラズマ処理装置を提供することを目的としていを提供すること。【解決手段】真空チャンバ20の導波管10と対向する部分に設けられマイクロ波を真空チャンバ20内部に導入するためのスリット11aが形成され、真空チャンバ20側の面にスリット11aを通過した上記マイクロ波を内面に沿って伝播させる天板11と、天板11の真空チャンバ20側に設けられるとともにマイクロ波を透過させる板状の誘電体40とを備え、誘電体30の真空チャンバ20側の表面には突条41が形成されている。
請求項（抜粋）：
マイクロ波導入手段を介してチャンバ内部にマイクロ波を伝達させ、チャンバ内部でプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、上記チャンバの上記マイクロ波導入手段と対向する部分に設けられ上記マイクロ波をチャンバ内部に導入するための開口部が形成され、上記チャンバ側の面に上記開口部を通過した上記マイクロ波を内面に沿って伝播させる天板と、この天板の上記チャンバ側に設けられるとともに上記マイクロ波を透過させる板状の誘電体とを備え、上記誘電体の上記チャンバ側の表面には凹凸部が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ,  H05H 1/46
FI (2件)：
H05H 1/46 B ,  H01L 21/302 B
Fターム (6件)：
5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB32 ,  5F004BD01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26
引用特許：
審査官引用 (3件)

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