特許
J-GLOBAL ID:200903007641828432

微小物の高解像度X線撮像方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-542149
公開番号(公開出願番号):特表2001-519022
出願日: 1998年04月08日
公開日(公表日): 2001年10月16日
要約:
【要約】サンプル用チャンバー(12)を形成する構造体(11)と、該構造体に装着されていて、X線(6)を発生させるための特定の入射ビーム(5)によって励起しやすい物質(20)とからなるX線撮像用サンプルセル(10)であって、前記セルが、放射されたX線(6)の少なくとも一部がチャンバー(12)を透過してサンプル(7)を照射し、その後セル(10)を出て検出器(35)へ到達するように配置されてなるX線撮像用サンプルセル(10)。
請求項(抜粋):
サンプル用チャンバーを形成する構造体と、該構造体に装着されていて、X線を発生させるための特定の入射ビームによって励起可能な物質とからなるX線撮像用サンプルセルであって、前記セルが、放射されたX線の少なくとも一部がチャンバーを透過してサンプルを照射し、その後セルを出て検出器へ到達するように配置されてなるX線撮像用サンプルセル。
IPC (2件):
G21K 7/00 ,  H01J 35/00
FI (2件):
G21K 7/00 ,  H01J 35/00 Z
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • X線顕微鏡
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-159143   出願人:株式会社島津製作所, 理化学研究所
  • 特開平4-294040
  • 特開平4-294040
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