薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：羽鳥修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-175122
公開番号（公開出願番号）：特開2005-350423
出願日： 2004年06月14日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：

【課題】亜鉛を含有する薄膜の形成に適した、亜鉛化合物を含有する薄膜形成用原料を提供すること。【解決手段】 25°Cで液体であるビス(β-ジケトナト)亜鉛化合物を含有してなる薄膜形成用原料。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

25°Cで液体であるビス(β-ジケトナト)亜鉛化合物を含有してなる薄膜形成用原料。

IPC (3件)：

C07C49/92 , C07F3/06 , C23C16/18

FI (3件)：

C07C49/92 , C07F3/06 , C23C16/18

Fターム (11件)：

4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB91 , 4H048AA01 , 4H048AA03 , 4H048AB78 , 4H048VA66 , 4H048VB10 , 4K030AA11 , 4K030BA21 , 4K030EA01

引用特許：

出願人引用 (4件)

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審査官引用 (2件)

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