特許
J-GLOBAL ID：200903007691419126

処理装置

発明者：
高島 敏英

高島 敏英 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-179767
公開番号（公開出願番号）：特開2001-007074
出願日： 1999年06月25日
公開日（公表日）： 2001年01月12日
要約：
【要約】【課題】 粘度が高い処理液でも短時間で排液することができる処理装置を提供する。【解決手段】 洗浄槽60にSPMを供給する供給回路70と,洗浄槽60内からSPMを排液する排液回路71と,供給回路70と排液回路71との間を接続する循環回路72と,循環回路72に設けられたポンプ73とを備えた洗浄装置12において,供給回路70と排液回路71との間を接続する第1の迂回回路74と,ポンプ73の下流側と排液回路71との間を接続する第2の迂回回路75とを備えている。洗浄槽60内から排液されるSPMを,循環回路72に流入させ,ポンプ73によって送液して排液する。
請求項（抜粋）：
基板を収納する処理槽に処理液を供給する供給回路と,前記処理槽から処理液を排液する排液回路と,前記供給回路と前記排液回路との間を接続する循環回路と,前記循環回路に介装され前記排液回路側から前記供給回路側に処理液を送液するポンプとを備えた処理装置において,前記供給回路と前記循環回路との接続点よりも前記処理槽側において供給回路に一端が接続され,前記排液回路と前記循環回路との接続点よりも前記処理槽側において前記排液回路に他端が接続されるか若しくは前記ポンプの上流側において循環回路に他端が接続された第1の迂回回路と,前記ポンプの下流側において前記循環回路に一端が接続された第2の迂回回路とを備え,前記第1の迂回回路に第1の弁を設け,前記第2の迂回回路に第2の弁を設け,前記供給回路と前記循環回路の接続点と前記供給回路と前記第1の迂回回路の接続点との間において前記供給回路に第3の弁を設け,前記供給回路と前記循環回路の接続点よりも前記処理槽の反対側において前記供給回路に第4の弁を設け,前記排液回路と前記循環回路の接続点よりも前記処理槽の反対側において前記排液回路に第5の弁を設けたことを特徴とする,処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 642
FI (3件)：
H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 K ,  H01L 21/304 642 A
引用特許：
審査官引用 (3件)

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