特許
J-GLOBAL ID：200903007708698326
アルミナ膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-005565
公開番号（公開出願番号）：特開平8-193262
出願日： 1995年01月18日
公開日（公表日）： 1996年07月30日
要約：
【要約】【目的】 低温度、短時間でもα-アルミナ膜を形成する。【構成】 酸素が導入される真空容器1内の被処理物7を加熱すると共にアルミニウムを蒸発させ、この蒸発粒子を被処理物7とアルミとの間に発生させたプラズマ10によってイオン化して被処理物7に付着させるアルミナ膜形成方法において、前記プラズマ10の中心と被処理物7との距離を 100〜700mm にすると共に、前記プラズマ10の電子温度を 50000〜160000Kにする。
請求項（抜粋）：
酸素が導入される真空容器内の被処理物を加熱すると共にアルミニウムを蒸発させ、この蒸発粒子を被処理物とアルミとの間に発生させたプラズマによってイオン化して被処理物に付着させるアルミナ膜形成方法において、前記プラズマの中心と被処理物との距離を 100〜700mm にすると共に、前記プラズマ電子温度を 50000〜160000Kにすることを特徴とするアルミナ膜形成方法。
引用特許：
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