特許
J-GLOBAL ID：200903007734308064

基質制御膜を導入した固定化酵素膜

発明者：
渡邊 郁子

渡邊 郁子 について

, 
秋山 英時

秋山 英時 について


出願人/特許権者：
株式会社常光

株式会社常光 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-406610
公開番号（公開出願番号）：特開2005-164501
出願日： 2003年12月05日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
【課題】従来型の固定化酵素膜では、固定化する酵素の量を増加させると下地電極側相の生成物移動速度が飽和し、酵素量を減らすと、目的分子の量が多くなるに連れ酵素反応が飽和するため、固定化酵素膜の改良だけでは定量測定可能な測定レンジを広げることが困難であった。【解決手段】試料側の相である高分子化合物膜の孔径を調節し、目的分子の酵素固定化膜への移動量を調節する基質制御膜とすることにより、固定化酵素膜自体の変更なしに、直線性を向上させ、定量的測定可能な測定レンジを広げることが可能となり、課題が解決された。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
高分子化合物よりなる膜の孔径の調節を行うことで測定対象とする基質の量を調節する役割を持った基質制御膜、およびこの基質制御膜を導入した固定化酵素膜。
IPC (3件)：
G01N27/327 ,  C12M1/40 ,  C12N11/02
FI (3件)：
G01N27/30 353B ,  C12M1/40 B ,  C12N11/02
Fターム (15件)：
4B029AA07 ,  4B029AA21 ,  4B029BB16 ,  4B029CC03 ,  4B029FA13 ,  4B033NA22 ,  4B033NB33 ,  4B033NB45 ,  4B033NB63 ,  4B033NB68 ,  4B033NB70 ,  4B033ND05 ,  4B033ND12 ,  4B033ND16 ,  4B033ND20
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM