スピン処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-362909
公開番号（公開出願番号）：特開2001-176836
出願日： 1999年12月21日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】この発明は乾燥処理時に基板の裏面を確実に乾燥処理できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。【解決手段】回転駆動される基板の裏面中心部分に気体を噴射してこの基板の裏面を乾燥処理するスピン処理装置において、カップ体1と、カップ体内に設けられ回転駆動されるとともに上記基板の周辺部を着脱可能に支持する第1の支持部8が設けられた回転体5と、この回転体に支持された基板の裏面中心部分に対向して固定的に配設されこの基板の裏面に乾燥用の気体及び処理液を噴射するノズル体24〜26を有するノズルヘッド23と、上記回転体に固定されて設けられ上記ノズルヘッドを覆うとともに上記ノズル体に対向する部分に開口部が形成されたカバー31とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

回転駆動される基板の裏面中心部分に気体を噴射してこの基板の裏面を乾燥処理するスピン処理装置において、カップ体と、カップ体内に設けられ回転駆動されるとともに上記基板の周辺部を着脱可能に支持する第1の支持部が設けられた回転体と、この回転体に支持された基板の裏面中心部分に対向して固定的に配設されこの基板の裏面に乾燥用の気体及び処理液を噴射するノズル体を有するノズルヘッドと、上記回転体に固定されて設けられ上記ノズルヘッドを覆うとともに上記ノズル体に対向する部分に開口部が形成されたカバーとを具備したことを特徴とするスピン処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 , H01L 21/304 643

FI (3件)：

H01L 21/304 651 B , H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 643 A

引用特許：

出願人引用 (2件)

スピン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-151048 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
スピン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-263972 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社

審査官引用 (2件)

スピン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-151048 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
スピン処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-263972 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社

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