特許

J-GLOBAL ID：200903007753736247

化粧料

発明者： 中西 鉄雄 ,  橘 清美
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-099427
公開番号（公開出願番号）：特開2003-292415
出願日： 2002年04月01日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】 感触に優れると共に優れた乳化力及び乳化安定性を有し、後肌のしっとりする化粧料を提供すること、及び、油汚れなどに対して速やかな洗浄性を有し、優れた使用感を有する洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】 A)成分として、特定の化学構造を有するオルガノポリシロキサン変性ポリオキシアルキレン基含有シリコーン化合物を含有することを特徴とする、液状、乳液状、クリーム状、固形状、ペースト状、ゲル状、粉末状、プレス状、多層状、ムース状、スプレー状、スティック状などの化粧料。

請求項（抜粋）：

A)成分として、下記一般式(1)で示されるシリコーン化合物を含有することを特徴とする化粧料。R1aR2bR3cSiO(4-a-b-c)/2 (1)但し、式中R1は炭素数1〜30のアルキル基、アリール基、アラルキル基、フッ素置換アルキル基、アミノ置換アルキル基、カルボキシル置換アルキル基、あるいは下記一般式(2) -CmH2m-O-(C2H4O)d(C3H6O)eR4 (2)で示される有機基から選択される同種または異種の有機基R2は下記一般式(3)-CmH2m-O-(C2H4O)f(C3H6O)g-R5 (3)で示されるポリオキシアルキレン基、R3は下記一般式(4) -CnH2n-(SiR12O)h-SiR13 (4)で示されるオルガノシロキサンであって、R4は炭素数4〜30の炭化水素基又はR6-(CO)-で示される有機基、 R5は水素原子若しくは炭素数1〜30の炭化水素基又はR6-(CO)-で示される有機基、 R6は炭素数1〜30の炭化水素基である。a、b、cはそれぞれ1.0≦a≦2.5、0.001≦b≦1.5、0.001≦c≦1.5であり、d、eはそれぞれ0≦d≦50、0≦e≦50の整数であり、f、gはそれぞれ2≦f≦200、0≦g≦200、かつf+gが3〜200の整数である。mは0≦m≦15の整数である。hは0≦h≦500の整数であり、nは1≦n≦5の正数である。

IPC (17件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/021 ,  A61K 7/025 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/32 ,  A61K 7/38 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/82 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37 ,  C11D 10/02

FI (23件)：

A61K 7/00 J ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 M ,  A61K 7/00 N ,  A61K 7/00 P ,  A61K 7/00 R ,  A61K 7/00 U ,  A61K 7/02 A ,  A61K 7/021 ,  A61K 7/025 ,  A61K 7/031 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/32 ,  A61K 7/38 ,  A61K 7/42 ,  A61K 7/48 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/82 ,  C11D 3/20 ,  C11D 3/37 ,  C11D 10/02

Fターム (121件)：

4C083AA122 ,  4C083AB051 ,  4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB222 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB352 ,  4C083AB362 ,  4C083AB372 ,  4C083AB382 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AB471 ,  4C083AB472 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC062 ,  4C083AC072 ,  4C083AC101 ,  4C083AC102 ,  4C083AC111 ,  4C083AC112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC212 ,  4C083AC242 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC521 ,  4C083AC522 ,  4C083AC542 ,  4C083AC552 ,  4C083AC562 ,  4C083AC582 ,  4C083AC692 ,  4C083AC782 ,  4C083AC812 ,  4C083AC842 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD171 ,  4C083AD172 ,  4C083AD222 ,  4C083AD242 ,  4C083AD332 ,  4C083AD342 ,  4C083AD352 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083AD662 ,  4C083BB01 ,  4C083BB11 ,  4C083BB13 ,  4C083BB21 ,  4C083BB25 ,  4C083BB36 ,  4C083BB60 ,  4C083CC02 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC07 ,  4C083CC11 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC17 ,  4C083CC19 ,  4C083CC23 ,  4C083CC31 ,  4C083CC33 ,  4C083DD05 ,  4C083DD08 ,  4C083DD11 ,  4C083DD12 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD31 ,  4C083DD32 ,  4C083DD33 ,  4C083DD34 ,  4C083DD41 ,  4C083DD42 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE12 ,  4C083EE17 ,  4C083EE18 ,  4C083EE28 ,  4C083FF01 ,  4C083FF05 ,  4H003AC03 ,  4H003AC08 ,  4H003AC12 ,  4H003AC21 ,  4H003DA02 ,  4H003EA19 ,  4H003EB04 ,  4H003EB37 ,  4H003ED02 ,  4H003FA04 ,  4H003FA21

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 新規シリコーン化合物及びそれを含有してなる化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-216619   出願人：信越化学工業株式会社
• 新規なシリコーン粉体処理剤及びそれを用いて表面処理された粉体、並びにこの粉体を含有する化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-185999   出願人：信越化学工業株式会社
• 油中水型乳化化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-277308   出願人：株式会社コーセー
• 化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-401005   出願人：株式会社コーセー
• 油性化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-304424   出願人：株式会社コーセー
• 油中水型乳化化粧料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-090260   出願人：株式会社コーセー