特許
J-GLOBAL ID:200903007772732759

静電チャック

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-182748
公開番号(公開出願番号):特開2004-031479
出願日: 2002年06月24日
公開日(公表日): 2004年01月29日
要約:
【課題】内部に形成される電極層を開孔を有する構造にすることによって、封孔処理剤の含浸性を向上させ、耐電圧特性の極めて優れた静電チャックを提供する。【解決手段】基台1と、この基台1の上面に溶射により形成された下部絶縁層2と、この下部絶縁層2の上に形成された電極層3と、この電極層3を被覆するように下部絶縁層2の上に溶射により形成された上部絶縁層4と、を具備する静電チャックであって、電極層3の開孔率を5〜80%とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基台と、この基台の上面に溶射により形成された下部絶縁層と、この下部絶縁層の上に形成された電極層と、この電極層を被覆するように前記下部絶縁層の上に溶射により形成された上部絶縁層と、を具備する静電チャックであって、前記電極層の開孔率が5〜80%であることを特徴とする静電チャック。
IPC (2件):
H01L21/68 ,  H02N13/00
FI (2件):
H01L21/68 R ,  H02N13/00 D
Fターム (4件):
5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16
引用特許:
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る