特許

J-GLOBAL ID：200903007784646289

露光装置およびデバイスの製造方法

発明者： 江渡 良 ,  水澤 伸俊 ,  丸茂 光司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-290553
公開番号（公開出願番号）：特開2002-100567
出願日： 1996年09月18日
公開日（公表日）： 2002年04月05日
要約：

【要約】【課題】 露光室内の装置の表面を清浄化することにより、転写精度を大幅に向上できるようにする。【解決手段】 露光室1は、格子状の床面2aの下から真空引きされる。露光室1内が所定の真空度に達したときに、異物除去装置40によってウエハチャック11やハンド31の表面のゴミ等の異物を除去する。ゴミ等の異物は格子状の床面2aに落下して、真空引きの排気とともに排出される。

請求項（抜粋）：

露光室を真空引きして所定の真空度にする機能を有する露光装置において、前記所定の真空度のときに前記露光室内の装置の表面を清浄化する清浄化手段を有することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 503 G

Fターム (31件)：

5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031GA03 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA02 ,  5F031HA13 ,  5F031HA53 ,  5F031JA01 ,  5F031JA45 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA20 ,  5F031LA12 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031NA13 ,  5F031NA14 ,  5F031NA15 ,  5F046AA17 ,  5F046AA22 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10 ,  5F046DA07 ,  5F046DA27 ,  5F046GA11 ,  5F046GC04

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 真空装置及びその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-031440   出願人：東芝機械株式会社
• 特開昭61-189546
  
• 露光装置用のクリーニング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-216570   出願人：株式会社ニコン