露光装置用のクリーニング装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-216570
公開番号（公開出願番号）：特開平7-066114
出願日： 1993年08月31日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：

【要約】【目的】露光装置に備えられ、ウエハを保持するウエハホルダーの清掃を行うためのクリーニング装置において、清掃の効率化を図る。【構成】ウエハホルダー3はZステージ11上に載置され、Zステージ11はステージ12,13によりXY平面内で移動できる。ウエハホルダー3上にウエハWを載置した後、焦点検出系14,15を用いてウエハWの表面の凹凸を調べ、例えば凹部の下には異物があると判定し、異物があると判定されたウエハホルダー3上の領域を重点的にクリーニング用工具26で清掃する。

請求項（抜粋）：

転写用のパターンが形成されたマスクを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンが転写される感光性の基板を吸着保持する基板保持部材と、該基板保持部材を介して前記基板を前記基板に平行な2次元平面上の所定の露光領域に移動する基板ステージとを有する露光装置に設けられ、前記基板保持部材の清掃を行うためのクリーニング装置において、前記基板保持部材上に前記基板を吸着保持した状態で、該基板の露光面の凹凸又は傾斜の状態を計測する表面状態計測手段と、該表面状態計測手段の計測結果より前記基板保持部材の表面内で清掃が必要な領域を求める演算制御手段と、前記基板保持部材の表面内で清掃が必要と認められた領域の清掃を行うクリーニング手段と、を有することを特徴とする露光装置用のクリーニング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G01N 21/88

FI (2件)：

H01L 21/30 503 C , H01L 21/30 526 A

引用特許：

審査官引用 (10件)

特開昭61-287229
特開昭63-034929
半導体露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-270430 出願人：キヤノン株式会社

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