特許
J-GLOBAL ID：200903007797056065

露光方法および露光装置

発明者：
清水 秀夫

清水 秀夫 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-207237
公開番号（公開出願番号）：特開平9-055350
出願日： 1995年08月14日
公開日（公表日）： 1997年02月25日
要約：
【要約】【課題】 特殊なフィルターを用いることなく、比較的単純なフィルターを用いて任意の光源形状を得ることができる露光方法および露光装置を提供すること。【解決手段】 1回の露光時間内に、露光用光を第1フィルター52に通してマスクに照射する工程と、前記第1フィルター52と異なる光透過率分布の第2フィルター54に露光用光を通してマスクに照射する工程とを少なくとも有する。
請求項（抜粋）：
光源からの露光用光をマスクに通し、そのマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光方法において、1回の露光時間内に、露光用光を第1フィルターに通してマスクに照射する工程と、前記第1フィルターと異なる光透過率分布の第2フィルターに露光用光を通してマスクに照射する工程とを少なくとも有する露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (6件)：
H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 515 D
引用特許：
審査官引用 (2件)

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