特許
J-GLOBAL ID：200903007814819558

基板処理装置および基板処理システム

発明者：
志賀 正佳

志賀 正佳 について

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枦木 憲二

枦木 憲二 について

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大谷 正美

大谷 正美 について

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西村 讓一

西村 讓一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-207326
公開番号（公開出願番号）：特開2006-313936
出願日： 2006年07月31日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：
【課題】スループットの低下を抑制しつつも適切な基板の検査を行うことができる基板処理技術を提供する。【解決手段】基板に対してレジスト塗布処理を行う塗布処理ユニット10と現像処理を行う現像処理ユニット20との間に検査ユニット30を設ける。検査ユニット30には、膜厚測定器32、線幅測定器33、重ね合わせ測定器34およびマクロ欠陥検査器35の4つの検査部を積層して配置している。同一内容の処理を行うべき1組の複数の基板の一部または全部のそれぞれを検査ユニット30の4つの検査部のうちから選択された1つの検査部に搬送することにより、4つの検査部のそれぞれには1組の複数の基板のうちの1枚以上全数未満が搬送される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に対してレジスト塗布処理および現像処理を行う基板処理装置であって、 基板にレジスト塗布処理を行う塗布処理部を含む第1の複数の処理部を備える塗布処理ユニットと、 基板に現像処理を行う現像処理部を含む第2の複数の処理部を備える現像処理ユニットと、 前記塗布処理ユニットと前記現像処理ユニットとの間に配置され、それぞれが異なる内容の基板検査を行う複数の検査部を備える検査ユニットと、 前記第1の複数の処理部、前記第2の複数の処理部および前記複数の検査部に基板を搬送する搬送手段と、 同一内容の処理を行うべき1組の複数の基板の一部または全部のそれぞれを前記複数の検査部のうちから選択された1つの検査部に搬送することにより、前記複数の検査部のそれぞれには前記1組の複数の基板のうちの1枚以上全数未満が搬送されるように前記搬送手段を制御する搬送制御手段と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (2件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A
Fターム (10件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031MA27 ,  5F031MA33 ,  5F031PA02 ,  5F031PA10 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05
引用特許：
審査官引用 (4件)
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