特許

J-GLOBAL ID：200903007855848872

エネルギービームによる処理方法および処理装置

発明者： 畠山 雅規 ,  一木 克則 ,  加藤 隆男 ,  畑村 洋太郎 ,  中尾 政之
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所 ,  畑村 洋太郎
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-082078
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318387
出願日： 1996年03月11日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【課題】 パターン作製の自由度が高く、簡単な構成で任意のパターンの曲面や斜面に超微細なパターンを自由にかつ精度良く加工処理することができる方法と装置を提供し、さらに、これにより作製された性能の優れた素子を提供する。【解決手段】 エネルギービーム源1より発生したエネルギービームを遮蔽物4・・・を介して被処理物Wに照射してこれを処理する方法であって、遮蔽物4・・・を被処理物Wとは別体として形成し、これを被処理物の表面上にもしくは表面より離れた位置に位置決めし、遮蔽物4・・・の持つパターンを被処理物W表面上に転写するように処理を行う。

請求項（抜粋）：

エネルギービーム源より発生したエネルギービームを遮蔽物を介して被処理物に照射してこれを処理する方法であって、上記遮蔽物を上記被処理物とは別体として形成し、これを該被処理物の表面上にもしくは表面より離れた位置に位置決めし、該遮蔽物の持つパターンを当該被処理物表面上に転写するように処理を行うことを特徴とするエネルギービームによる処理方法。

IPC (5件)：

B23K 26/06 ,  B23K 15/00 502 ,  B23K 15/00 508 ,  G21K 5/04 ,  H05H 3/02

FI (5件)：

B23K 26/06 J ,  B23K 15/00 502 ,  B23K 15/00 508 ,  G21K 5/04 Z ,  H05H 3/02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 微細加工法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-054022   出願人：株式会社ニコン
• 高速原子線を用いた加工方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-156811   出願人：株式会社荏原製作所