特許
J-GLOBAL ID：200903007898998266

粒子分析装置

発明者：
成定 憲志

成定 憲志 について


出願人/特許権者：
シスメックス株式会社

シスメックス株式会社 について


代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-211198
公開番号（公開出願番号）：特開2003-106984
出願日： 2002年07月19日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 分画異常を判定して誤まった分析を回避すること。【解決手段】 複数の粒子の各々から特徴パラメータを検出する検出部と、検出した特徴パラメータを用いて少なくとも2つの2次元頻度分布図を作成する分布図作成部と、各分布図に出現する粒子を粒子集団に分画する分画部と、2つの分布図において共通する種類の粒子を含む粒子集団がそれぞれ分画されるときに、それらの粒子集団の粒子数を比較する演算部と、その比較結果に基づいて上記分布図における分画の異常を判定する判定部とを備える。
請求項（抜粋）：
複数の粒子の各々から特徴パラメータを検出する検出部と、検出した特徴パラメータを用いて少なくとも2つの2次元頻度分布図を作成する分布図作成部と、各分布図に出現する粒子を粒子集団に分画する分画部と、2つの分布図において共通する種類の粒子を含む粒子集団がそれぞれ分画されるときに、それらの粒子集団の粒子数を比較する演算部と、その比較結果に基づいて上記分布図における分画の異常を判定する判定部とを備える粒子分析装置。
IPC (4件)：
G01N 15/14 ,  G01N 33/48 ,  G01N 33/483 ,  G01N 33/49
FI (4件)：
G01N 15/14 C ,  G01N 33/48 M ,  G01N 33/483 C ,  G01N 33/49 H
Fターム (6件)：
2G045AA01 ,  2G045CA02 ,  2G045CA11 ,  2G045CA16 ,  2G045FA11 ,  2G045JA01
引用特許：
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM