特許
J-GLOBAL ID：200903008007685978

ウェハ保持用真空チャック

発明者：
田中 学

田中 学 について


出願人/特許権者：
住友金属工業株式会社

住友金属工業株式会社 について


代理人 (1件)： 深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-182016
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373873
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 ウェハ研磨装置に使用されるウェハ保持用真空チャックであって、研磨されるウェハの平面度を高精度に保つとともに信頼性の高いウェハ保持用真空チャックを提供する。【解決手段】ウェハ研磨装置を構成するウェハ保持用真空チャックにおいて、セラミックス構造体22,23内部に真空吸引経路20および流体流路21が配設されている。この真空チャックは、溝加工を施したセラミックス基材を含む複数のセラミックス基材を積層した状態で、各基材同士が無機系接合剤層を介して接合されるとともに、各基材の接合面に前記流体流路が配設されていることが好ましい。
請求項（抜粋）：
ウェハ研磨装置を構成するウェハ保持用真空チャックであって、セラミックス構造体内部に真空吸引経路および流体流路が配設されているウェハ保持用真空チャック。
IPC (4件)：
H01L 21/304 622 ,  B23Q 3/08 ,  B24B 37/04 ,  H01L 21/68
FI (4件)：
H01L 21/304 622 H ,  B23Q 3/08 A ,  B24B 37/04 H ,  H01L 21/68 P
Fターム (13件)：
3C016DA02 ,  3C058AA07 ,  3C058AB04 ,  3C058CB01 ,  3C058DA17 ,  5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA13 ,  5F031HA38 ,  5F031MA22 ,  5F031PA14 ,  5F031PA26
引用特許：
審査官引用 (6件)
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