特許
J-GLOBAL ID:200903008009000301
感活性光線または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (21件):
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 風間 鉄也
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-331732
公開番号(公開出願番号):特開2009-265609
出願日: 2008年12月26日
公開日(公表日): 2009年11月12日
要約:
【課題】広い露光ラチチュード、ラインエッジラフネスの低減、良好なパターン形状及びドライエッチング耐性を満たし、更に現像後の欠陥が少ないパターンを形成することができるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】(A)式(I)、(II)及び(III)により表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、および(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素を含有する酸を発生する化合物を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。(式(II)〜(III)中の符号は明細書に記載の意味を表す。)【化1】【選択図】なし
請求項(抜粋):
(A)式(I)、(II)及び(III)により表される各繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂、および
(B)活性光線または放射線の照射によりフッ素を含有する酸を発生する化合物を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
, C08F 212/14
, C08F 220/10
FI (5件):
G03F7/039 601
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
, C08F212/14
, C08F220/10
Fターム (28件):
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BF15
, 2H025BG00
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025DA34
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA03P
, 4J100BB01R
, 4J100BC04R
, 4J100BC43R
, 4J100BC44R
, 4J100BC49R
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
引用特許:
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