特許

J-GLOBAL ID：200903008021089628

光走査装置及び画像形成装置

発明者： 樫村 秀樹
出願人/特許権者： 富士ゼロックス株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-273275
公開番号（公開出願番号）：特開2004-109610
出願日： 2002年09月19日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】オーバーフィルド光学系を採用した光走査装置において、フレア光による画質劣化を防止することの可能な光走査装置と、このような光走査装置を備えた画像形成装置を得る。【解決手段】開口部材112の開口部112Hによって、レーザービームLBの主走査方向に沿った幅を制限し有効走査領域の外側では主走査方向に低減する幅となるように制限することで、いわゆるフレア光の発生を防止し、光量均一性を向上させる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光ビームを射出する光源手段と、 前記光源手段から射出された光ビームを整形する第1光学系と、 複数の反射面を備え前記第1光学系で整形された光ビームを反射面で反射しつつ回転することで偏向走査させる回転多面鏡と、 前記回転多面鏡で偏向走査された光ビームを被走査面上へ結像させる走査光学系と、 前記反射面に入射される光ビームの前記偏向走査の方向に沿った主走査方向の幅を前記反射面の幅よりも広い幅とするとともに反射面へ入射する光ビームの前記主走査方向の幅を低減させる幅低減手段と、 を備えた光走査装置であって、 前記幅低減手段は、この幅低減手段によって低減される光ビームの幅が、有効走査領域外では主走査方向に低減される幅となるように設定されていることを特徴とする光走査装置。

IPC (3件)：

G02B26/10 ,  B41J2/44 ,  H04N1/113

FI (4件)：

G02B26/10 F ,  G02B26/10 103 ,  B41J3/00 D ,  H04N1/04 104A

Fターム (21件)：

2C362AA21 ,  2C362AA24 ,  2C362AA36 ,  2C362AA59 ,  2C362AA68 ,  2C362DA28 ,  2H045AA01 ,  2H045CB24 ,  2H045CB35 ,  2H045DA02 ,  5C072AA03 ,  5C072BA11 ,  5C072BA15 ,  5C072DA02 ,  5C072DA04 ,  5C072DA18 ,  5C072HA02 ,  5C072HA09 ,  5C072HA13 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 走査光学系と画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-305841   出願人：キヤノン株式会社
• 光走査光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-096679   出願人：キヤノン株式会社
• 光学走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-017561   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 光走査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-267222   出願人：株式会社リコー