特許

J-GLOBAL ID：200903008030562476

ポジ型感放射線性組成物

発明者： 落合 為一 ,  亀山 泰弘
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-027845
公開番号（公開出願番号）：特開平9-222732
出願日： 1996年02月15日
公開日（公表日）： 1997年08月26日
要約：

【要約】【課題】 遠紫外線領域の光を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応できる高解像力を有し、しかも露光と露光後ベークとの間の引置き時間に対する安定性が良好な化学増幅型ポジ型感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂B、【化1】(ただし、R1、R2、R3、R7、R8、R9はそれぞれ独立に水素原子、C1以上C4以下のアルキル基を表わし、R4、R5は水素原子、C1以上C10以下のアルキル基を表わし、R6、R10はC1以上C10以下のアルキル基を表わす。また、R4とR5あるいはR4とR6とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)および放射線により酸を発生する化合物Cを主な成分として含有するポジ型感放射線性組成物において、樹脂Aのポリスチレン換算重量平均分子量をMw1とし、樹脂Bのポリスチレン換算重量平均分子量Mw2とするとき、Mw1>Mw2であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂B、【化1】(ただし、R1、R2、R3、R7、R8、R9はそれぞれ独立に水素原子、C1以上C4以下のアルキル基を表わし、R4、R5は水素原子、C1以上C10以下のアルキル基を表わし、R6、R10はC1以上C10以下のアルキル基を表わす。また、R4とR5あるいはR4とR6とが互いに結合して、炭素数3以上10以下の環を形成していてもよい。)および放射線により酸を発生する化合物Cを主な成分として含有するポジ型感放射線性組成物において、樹脂Aのポリスチレン換算重量平均分子量をMw1とし、樹脂Bのポリスチレン換算重量平均分子量Mw2とするとき、Mw1>Mw2であることを特徴とするポジ型感放射線性組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 501 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-286168   出願人：東京応化工業株式会社
• 感放射線性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-314061   出願人：日本合成ゴム株式会社
• ポリマー組成物及びこれを含んで成るレジスト材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-354985   出願人：和光純薬工業株式会社