特許
J-GLOBAL ID：200903008079693975
リソグラフィック装置較正方法、整列方法、コンピュータ・プログラム、リソグラフィック装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 岩本 行夫
, 吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-144947
公開番号（公開出願番号）：特開2004-343124
出願日： 2004年05月14日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【課題】リソグラフィック装置較正方法、整列方法、コンピュータ・プログラム、リソグラフィック装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】基板マークの予測位置と基板マークの実際の位置との間の変位ベクトルが計算される、前面-背面整列光学系のひずみを補償するための方法である。また、基準基板を一定の量だけ移動させ、かつ、基準基板の背面の1つのポイントの画像と基板の前面の対応するポイントのどちらがどれだけ遠くへ移動したかを比較することにより、光学修正アレイが計算される。次に、変位ベクトル及び光学修正アレイを使用して、他の基板の位置が正確に計算される。前面-背面整列光学系は、個々の分岐を通して複数のマークを同時に投影するだけの十分な大きさにすることができる。基準マークは、前面-背面整列光学系の対物ウィンドウ内に刻み込まれており、前面-背面整列光学系の単一分岐を通して投影される基準マークの画像と基板マークの画像の相対位置変化によって、前面-背面整列光学系の光学特性の変化が示される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
前面-背面整列光学系を備えたリソグラフィック装置を、基準基板の前面及び背面のマークを使用して較正する方法であって、前記方法が、
前面-背面整列光学系を通して観察される前記基準基板の背面のマークの位置と前記マークの実際の位置との間の変位ベクトルを計算するステップと、
第1の修正ベクトルを生成するべく、前記基準基板を前記前面-背面整列光学系に対して微小距離だけ移動させ、かつ、前記基準基板の背面の1つのポイントの画像と前記基準基板の前面の1つのポイントのどちらがどれだけ遠くへ移動したかを比較するステップと、
第2の修正ベクトルを生成するべく、前記基準基板を移動させる前記ステップを前記基準基板上の異なるポイントに対して繰り返すステップとを含み、変位ベクトル及び光学修正ベクトルが較正情報である方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 506N
, G03F9/00 H
5F046AA15
, 5F046BA03
, 5F046FC09
