特許
J-GLOBAL ID:200903008084958553

面光源装置及びそれに用いる導光体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山下 穣平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-050990
公開番号(公開出願番号):特開2006-236832
出願日: 2005年02月25日
公開日(公表日): 2006年09月07日
要約:
【課題】 エッジライト方式の面光源装置において正反射傾向の強い光源リフレクタを用いた場合においても、一次光源から到来し光入射端面に入射して導光体内へと導入される光が遮られることがなく、全体の輝度低下や本来導光すべき光の遮蔽による暗線の発生を引き起こしたりすることなく、長期にわたり光入射端面の近傍における輝線の発生を防止し局所的に急激な輝度変化の発生を防止する。【解決手段】 一次光源1及び光源リフレクタ2と組み合わせて使用される導光体3において、光出射面33に、光入射端面31に沿って延びた第1光吸収帯36及び第2光吸収帯136が並列配置されており、第1光吸収帯36の幅は50μm〜800μmであり、第1光吸収帯36の光入射端面31に近い側縁は光入射端面からの距離が300μm以下であり、第2光吸収帯136の光入射端面31に近い側縁は光入射端面から500μm〜3000μm離れて位置している。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
一次光源から発せられる光を導光し、且つ前記一次光源から発せられる光が入射する光入射端面及び導光される光が出射する光出射面及び該光出射面の反対側の裏面を有する導光体であって、 前記光出射面及び裏面のいずれか一方に、前記光入射端面に沿って延びた第1光吸収帯及び第2光吸収帯が前記光入射端面に近い側からこの順に並列配置されており、前記第1光吸収帯の幅は50μm〜800μmであり、前記第1光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面からの距離が300μm以下であり、前記第2光吸収帯の前記光入射端面に近い側縁は前記光入射端面から500μm〜3000μm離れて位置していることを特徴とする面光源装置用導光体。
IPC (3件):
F21V 8/00 ,  G02B 6/00 ,  G02F 1/133
FI (4件):
F21V8/00 601A ,  F21V8/00 601C ,  G02B6/00 331 ,  G02F1/13357
Fターム (14件):
2H038AA55 ,  2H038BA06 ,  2H091FA07X ,  2H091FA07Z ,  2H091FA21Z ,  2H091FA23Z ,  2H091FA26X ,  2H091FA26Z ,  2H091FA31Z ,  2H091FA41Z ,  2H091FC12 ,  2H091FC22 ,  2H091LA18 ,  2H091LA30
引用特許:
出願人引用 (8件)
  • 実公昭40-26083号公報
  • 実開昭60-60788号公報
  • 実開昭62-154422号公報
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審査官引用 (3件)
  • 液晶表示装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-165345   出願人:株式会社日立製作所, 日立デバイスエンジニアリング株式会社
  • 面光源装置、画像表示装置及び導光板
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2002-190053   出願人:株式会社エンプラス
  • 光拡散性シート
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-205980   出願人:株式会社きもと

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