特許
J-GLOBAL ID:200903008095884691

蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-095632
公開番号(公開出願番号):特開2005-281746
出願日: 2004年03月29日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
【課題】基板および蒸着マスクが大型化した場合においても、基板と蒸着マスクの密着性を向上させて、基板上に形成する蒸着パターンの精度を向上させることが可能な蒸着装置、蒸着方法、電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。【解決手段】基板の蒸着面側に蒸着マスクを配置し、前記基板の蒸着面に蒸着源により膜形成を行う蒸着装置において、前記基板を前記蒸着マスクに密着させるように、前記基板の撓み量に応じた加重を当該基板の背面側から複数の点で加える基板加重機構を設けたものである。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板の蒸着面側に蒸着マスクを配置し、前記基板の蒸着面に蒸着源により膜形成を行う蒸着装置において、 前記基板を前記蒸着マスクに密着させるように、前記基板の撓み量に応じた加重を当該基板の背面側から複数の点で加える基板加重機構を設けたことを特徴とする蒸着装置。
IPC (4件):
C23C14/50 ,  C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14
FI (4件):
C23C14/50 F ,  C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (9件):
3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029CA01 ,  4K029HA01 ,  4K029JA00 ,  4K029JA01 ,  4K029JA06
引用特許:
出願人引用 (2件)

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