電子線分析装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：喜多俊文 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-117011
公開番号（公開出願番号）：特開2002-310959
出願日： 2001年04月16日
公開日（公表日）： 2002年10月23日
要約：

【要約】【課題】バルク試料を3次元分析する。【解決手段】分析室3の内部には試料Sに照射するための電子ビームBを発生する電子線照射部4や試料から発生するX線Rを分光して検出するX線分光検出部5、試料から発生する電子Eを検出する電子検出部6などを備えている。また、試料に電子ビームが照射される分析位置P1の近傍にはグロー放電部8が配設されており、エッチング位置P2とされている。この二つの位置の間で試料Sを移動させるための試料ステージ7が設けられている。P2で試料表面をエッチングした後にP1で面分析することを繰り返すことによって試料の立体的な情報分布を得るための3次元分析を行うことができる。

請求項（抜粋）：

細く絞られた電子ビームを試料表面に照射し試料から放射される信号に基づいて試料表面の面分析を行う電子線分析装置おいて、電子ビームを試料に照射する空間の近傍に試料表面を深さ方向にエッチングするためのグロー放電部を備え、このグロー放電部による試料表面のエッチングと前記試料表面の面分析を交互に繰り返して試料の3次元分析を行うことを特徴とする電子線分析装置。

IPC (7件)：

G01N 23/225 , G01N 1/28 , G01N 1/32 , G01N 1/34 , H01J 37/20 , H01J 37/252 , H01J 37/28

FI (9件)：

G01N 23/225 , G01N 1/32 B , G01N 1/34 , H01J 37/20 D , H01J 37/20 F , H01J 37/252 A , H01J 37/252 Z , H01J 37/28 B , G01N 1/28 G

Fターム (37件)：

2G001AA03 , 2G001BA05 , 2G001BA07 , 2G001BA15 , 2G001CA01 , 2G001CA03 , 2G001DA01 , 2G001DA06 , 2G001EA01 , 2G001EA03 , 2G001GA04 , 2G001GA06 , 2G001GA08 , 2G001JA07 , 2G001JA11 , 2G001JA14 , 2G001PA01 , 2G001PA07 , 2G001PA11 , 2G001PA14 , 2G001RA04 , 2G001RA05 , 2G001RA20 , 2G052EC14 , 2G052EC16 , 2G052FC02 , 2G052GA19 , 5C001AA02 , 5C001BB03 , 5C001BB07 , 5C001CC05 , 5C001DD01 , 5C033PP02 , 5C033PP08 , 5C033RR02 , 5C033RR03 , 5C033RR08

引用特許：

審査官引用 (7件)

電子線装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-332488 出願人：日本電子株式会社
特開昭61-277042
特開平2-108949

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