特許
J-GLOBAL ID：200903008146206804

光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置

発明者：
福智 昇央

福智 昇央 について

, 
伊ケ崎 泰則

伊ケ崎 泰則 について

, 
井上 卓

井上 卓 について


出願人/特許権者：
浜松ホトニクス株式会社

浜松ホトニクス株式会社 について


代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟 ,  池田 成人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-290597
公開番号（公開出願番号）：特開2006-072279
出願日： 2004年10月01日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】 光パターンの形状を制限することなく0次光を低減することの可能な光パターン形成技術を提供する。【解決手段】 位相変調型の空間光変調器(12)を用いて読出し光(26)を位相変調し、その位相変調された読出し光(26)をフーリエ変換して出力面(24)上に結像させ、光パターンを形成する。この方法では、位相変調された読出し光(26)に含まれる0次光を出力面(24)上でぼかす。0次光をぼかすことによって、出力面(24)上における0次光の輝度が低減される。0次光を遮断しないので、光パターンの形状は制限されない。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
位相変調型の空間光変調器を用いて読出し光を位相変調し、その位相変調された読出し光をフーリエ変換して出力面上に結像させ、光パターンを形成する方法において、 前記位相変調された読出し光に含まれる0次光を前記出力面上でぼかすことを特徴とする光パターン形成方法。
IPC (1件)：
G02F 1/061
FI (1件)：
G02F1/061 503
Fターム (5件)：
2H079AA02 ,  2H079AA12 ,  2H079BA03 ,  2H079CA02 ,  2H079DA08
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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